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“빨리빨리” “듬뿍듬뿍” 삼성전자가 50조 들여 P3라인 속도 내는 이유

삼성전자와 협력업체 직원들이 경기도 평택에 있는 삼성전자 평택캠퍼스로 출근하고 있다. 도로 뒤쪽으로 건설 중인 반도체공장이 보인다. 전민규 기자

삼성전자와 협력업체 직원들이 경기도 평택에 있는 삼성전자 평택캠퍼스로 출근하고 있다. 도로 뒤쪽으로 건설 중인 반도체공장이 보인다. 전민규 기자

삼성전자가 파운드리(반도체 위탁생산) 투자에 보다 속도를 낼 것으로 보인다. 평택캠퍼스 내 P3라인 가동 및 파운드리 물량 확대, P4라인 조기 착공 등을 통해서다. 여기에 미국 현지에 파운드리공장 신·증설이 더해지면 국내외에서 ‘전방위 파운드리 투자’가 진행되는 셈이다.

평택 P3라인에 파운드리 배정량 늘리고
P4라인 조기 착공, 미국 현지투자 더해
생산 규모 확대하고, 미세공정 도입할 듯
“삽 안 뜨고 투자 발표한 경쟁사와 달라”

 
16일 반도체 업계에 따르면 삼성전자는 평택캠퍼스 P3라인에 40조~50조원을 투자할 것으로 전망된다. 세계 1위를 차지하고 있는 D램과 최첨단 파운드리 제품을 주력 생산할 예정이다.
 
P3라인 현장은 문재인 대통령이 지난 13일 참석해 ‘K-반도체 전략’을 제시했던 곳이다. 이날 삼성전자는 2030년까지 기존 133조원에 38조원을 더해, 총 171조원을 시스템 반도체에 투자하겠다고 밝혔다.
 
P3라인은 우선 공장의 규모가 매머드급이다. 클린룸(먼지·세균이 없는 생산시설) 규모가 축구장 25개 넓이로, 기존 P2라인(축구장 16개 넓이)보다 1.7배 크다. 공장의 길이가 700m로 P2보다 200m 길다. 여기에다 극자외선(EUV) 노광장비 등 첨단 장비가 투입된다. 업계에선 P2라인에 30조원이 투입된 것을 고려해, P3라인을 가동하는데 드는 투자 금액이 40조~50조원에 이를 것으로 추정한다.
 
익명을 원한 삼성전자 관계자는 “요즘 P3라인 공사를 점검하는 회의에서 ‘빨리빨리’ ‘듬뿍듬뿍’이라는 표현이 자주 나온다”며 “공기는 최대한 단축하고, 설비는 넉넉하게 조달하라는 의미”라고 전했다. 삼성물산 관계자 역시 “거푸집 없이 시멘트를 붓는 등 초고속으로 공사를 하고 있다. 회사의 모든 역량을 쏟아 부는 중”이라고 말했다.  
 
P3라인은 연내에 겉모습은 웬만큼 갖춰질 예정이다. 이후 전력과 용수 등 유틸리티 시설 구축, 설비 반입, 배관 연결 등을 거쳐 시운전을 하게 된다. 삼성 측은 “공장을 4개로 나눠 공사를 진행하고, 단계별로 늦어도 2023년 하반기 양산이 목표”라고 말했다.  
 
이 공장에선 극자외선(EUV) 기술이 적용된 14㎚(나노·1㎚는10억 분의 1m) D램과 5나노 로직 제품을 주로 양산할 예정이다. 익명을 원한 또 다른 삼성 관계자는 “P2라인처럼 P3라인에도 파운드리 생산 배정량을 보다 높일 수 있다”고 말했다. 
 
여기에 더해 P4라인도 조기 착공할 가능성이 커지고 있다. 경기도 평택시 고덕면 일대에 조성된 삼성전자 평택캠퍼스 부지는 총 289만㎡(약 87만 평)에 이른다. 여의도 면적(약 290만㎡)과 비슷하다.  
 
캠퍼스 안에는 반도체공장 6개를 지을 수 있는 부지가 있는데, 삼성전자는 이미 평택시 측에 P4~P6라인 증설을 위한 공업용수 확보를 요청한 것으로 알려졌다. 반도체 공정에는 대규모 전력과 함께 오염되지 않은 깨끗한 물이 필요하다. 특히 용수 확보는 인근 주민 생활에도 영향을 미치기 때문에 본격적인 건설 인‧허가 단계에 접어들기 전에 미리 확보에 나선다.
 
이에 따라 업계에선 P4라인 조성이 예상보다 빠르게 진행될 것으로 본다. P3라인도 P2라인이 가동(지난해 8월)되기 전인 지난해 6월 착공한 만큼, 이르면 내년 P4라인 건설이 시작될 수 있다는 것이다. 
 
파운드리 라인도 추가한다. 지난해엔 P2라인 하층부에 파운드리 라인을 추가로 갖췄다. 업계에선 삼성전자가 화성캠퍼스에도 EUV 등 첨단 장비를 추가로 갖출 수 있다고 본다.

삼성전자는 2019년 4월 133조원 투자 계획을 내놓으며 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자하겠다고 밝혔다. 나머지 73조원은 연구개발(R&D)에 쓰인다. 지난 13일 추가 투자하겠다고 발표한 38조원에 대한 구체적인 쓰임새는 밝히지 않았지만, 업계에선 파운드리 라인 증설에 쓰일 것으로 예상한다.
 
미국 내 반도체 공장 조성에 대한 관심도 커지고 있다. 미국 상무부는 오는 20일(현지시간) 삼성전자를 비롯한 세계 주요 반도체업체 최고경영자(CEO)를 불러 ‘반도체 서밋’을 연다. 지난달 12일에 이은 두 번째 회의다. 이튿날인 21일엔 한‧미 정상회담이 열린다.  
 
업계에선 20~21일 삼성전자가 미국 투자계획을 발표할 것으로 예상한다. 삼성전자는 텍사스주 오스틴시 등과 170억 달러(약 19조9200억원) 투자 여부를 두고 협상을 벌이고 있는 것으로 알려졌다.
 
이 같은 과감한 투자를 통해 삼성전자가 파운드리 분야에서 보다 조기에 성과를 거둘 것이란 예측이 나온다. 익명을 원한 업계 관계자는 “사실 삼성의 파운드리 경쟁사인 TSMC나 인텔은 삽도 안 뜨고 투자계획을 발표한 것”이라며 “(삼성이) P2·P3라인에 파운드리 배정 물량을 늘리고, 미세공정 기술을 도입하면 TSMC보다 더 많은 캐파(생산 규모)를 확보할 수 있다는 얘기”라고 말했다. 이어 “삼성이 목표로 하는 ‘2030년 파운드리 세계 1위’가 아주 근거 없는 것은 아니다”고 덧붙였다.
 
이종호 서울대 전기·정보공학부 교수는 “투자 규모도 중요하지만, 경쟁사가 어떤 전략으로 어떻게 투자하는지 면밀히 살피고 분석해 투자 가치를 극대화하는 세부 전략이 중요하다”고 조언했다.  
 
최현주 기자 chj80@joongang.co.kr
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